最先端光学技術の理解
光学技術は、半導体製造で微細なパターンをシリコンウェハー上に正確に転写する工程（リソグラフィー工程）の中核技術です。
現在のリソグラフィー技術は、回折限界（光の波長より小さな構造の加工や再現が困難）を超えたパターンを転写するために、「露光波長の更なる短波長化」、「光学系のHigh-NA(高開口数)化」、変形照明あるいは位相シフトマスクを用いた「超解像」や設計パターンに対する「OPC(Optical Proximity Correction)などの光学的近接効果補正」、更には作りたいパターンから逆演算によりマスク形状を求める「インバースリソグラフィ(ILT)」といった技術が駆使されており、様々な最先端技術とノウハウの塊になっています。
「露光波長の更なる短波長化」に関しては、最先端のEUV露光装置において、日本が海外に遅れをとっている現状がありますが、EUVマスク欠陥検査装置やEUV関連材料に関しては、日本が国際的な競争力を持っています。また、EUV技術全般においても遅れを取り戻すために、日本政府が研究機関や企業への支援を通して研究開発への支援を行っています。
ALITECSは、最先端のリソグラフィ技術開発を担ってきたメンバーを筆頭に、2021年から経済産業省から、ギガフォトン株式会社、キヤノン株式会社、株式会社ニコンとともに「重要技術管理体制強化事業（我が国における極微細加工を用いたエッジ半導体製造に係るサプライチェーン体制構築可能性調査）」を受注するなど、最先端の分野でも活動しています。
3D構造を持った半導体MASKに対応した、精度の高い光学モデルを用いたリソグラフィシミュレーションなどにも実績があります。
AI技術の活用
ALITECSでは、物理モデルとAIモデルそれぞれの特性を深く理解し、最適な形で使い分けることで、高精度かつ高効率な検査技術を実現しています。
光学シミュレーションにおいては、光の伝搬や干渉といった物理法則に基づくモデルと、複雑なパラメータの最適化にはAIを活用したアプローチも導入しています。物理モデルが得意とする「理論に基づいた再現性」と、AIモデルが持つ「大量のデータの学習により可能になる複雑な系での優れた予測」を適切に使い分けることで、より高精度で高効率なシミュレーションが可能となっています。
また、製品検査では、深層学習を活用したAIによる画像認識技術を用いて欠陥の自動分類を行いますが、単にAIを活用するのではなく、光学や検査の知識に基づいたカテゴリの検討により、高い精度を実現できると考えています。